根據(jù)plasma設(shè)備中的重粒子工作溫度，能把等離子體劃分為兩種類(lèi)型，熱等離子體和冷等離子體。以3×103K-3×104K，幾乎達(dá)到了熱力學(xué)平衡，有著統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn)熱力學(xué)平衡工作溫度，可以通過(guò)麥克斯韋的熱力學(xué)平衡態(tài)速度分布，波爾茲曼粒子能量分布，沙哈方程等方式確定等離子體狀態(tài)和叁數(shù)。熱等離子體能量密度高，主要運(yùn)用于材料合成、球化、致密性和涂層防護(hù)。

      在低溫plasma設(shè)備中，重粒子的溫度只有室溫，而電子溫度可以達(dá)到成千上萬(wàn)度，因此遠(yuǎn)離熱力學(xué)平衡狀態(tài)，例如輝光放電屬于低溫等離子體。冷等離子主要運(yùn)用于等離子蝕刻、沉積和plasma設(shè)備表面裝飾。電洗滌溫度是許多用戶(hù)關(guān)心的問(wèn)題，電洗滌時(shí)，電洗滌火焰看起來(lái)也和一般的火焰差不多，而電洗滌設(shè)備如采用中頻電源，功率大，能量猛，不加水冷工作溫度也很高，若洗滌材料不耐溫，則需注意工作溫度。
       plasma設(shè)備的電源常用的是13.56KHz射頻電源，它產(chǎn)生的等離子密度高，能量柔軟，溫度低，通常功率為1~2KW，大功率為5KW，小功率為數(shù)百W，多功率為40KHz，中頻功率為40KHz，與射頻電源相反，電漿密度不高，但功率大，能量高，大功率為幾十KW。真空plasma設(shè)備放電射頻清潔器的溫度與平時(shí)室內(nèi)氣溫也差不多，當(dāng)然如果整天都在使用真空plasma設(shè)備，還是需要加水冷卻系統(tǒng)。
       電漿噴射的平均溫度介于200至250攝氏度。如果能夠正確設(shè)定距離和速度，表面溫度可以達(dá)到70-80℃。本工藝適用于各種標(biāo)準(zhǔn)品(金屬、陶瓷、玻璃、塑料、彈性體等)的清洗，一般采用噴射式等離子體清洗裝置，也可應(yīng)用于流水線上的等離子體清洗裝置，由于流水線的不斷運(yùn)轉(zhuǎn)，材料在噴嘴下停留時(shí)間較長(zhǎng)。由于氮?dú)饽芙档偷入x子體工作溫度，有些噴射plasma清洗也能使用氮。電暈放電需要注意的是，plasma設(shè)備中還有一種產(chǎn)品叫做電暈，其實(shí)電暈也是等離子體清洗機(jī)的一種分類(lèi)。電暈機(jī)的洗滌工作溫度通常較高，電暈機(jī)與噴射plasma設(shè)備的洗滌工作溫度相似，有時(shí)遇到不耐高溫的材料，還會(huì)用氮清洗。事實(shí)上，沒(méi)有必要太擔(dān)心工作溫度問(wèn)題。當(dāng)前的等離子清洗機(jī)能夠很好地調(diào)溫度，使材料清洗達(dá)到理想的效果。